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美国最大内存芯片制造商美光科技在官网宣布,公司计划在纽约州中部打造一个巨型晶圆厂,以促进在美存储芯片的生产。
声明称,在未来20年,美光计划向工厂总共投资高达1000亿美元,这将成为纽约州历史上最大的私人投资,能为当地创造约50,000个就业机会。在项目周期内,纽约州还将为工厂提供55亿美元的资金激励,支持工厂招聘和资本投资。
美光将向一期项目投资200亿美元,在克莱镇新建一个巨型内存工厂,2023年开始场地准备工作,2024年开始施工,2025年实现量产,并在2026年-2030年间根据行业需求逐步增产。
声明指出,这座工厂最终可能包含四个600,000平方英尺的洁净室——半导体工业生产厂房,总计面积能达到240万平方英尺,规模接近40个橄榄球场的大小,创美国半导体行业历史之最。
美光透露,纽约工厂将采用最先进的半导体制造工艺和工具,包括极紫外线(EUV) 光刻技术,以巩固公司在DRAM行业中的领先地位。
在2031年-2040年期间,美光将致力于推动DRAM在美产量的增长,目标是占全球产量的40%以上。
在声明中,美光还提到了美国政府不久前签署的《芯片与科学法案》(Chips and Science Act)。公司首席执行官桑杰·梅罗特拉表示,“毫无疑问,如果没有这项法案,我们就不会有今天。”
目前这项法案已经促成了包含格芯、SK海力士、环球晶圆等多家芯片公司在美设厂的计划。
2023-03-01 20:42:23
2022-12-20 18:22:54
2022-09-13 20:21:18